高纯3N(99.9%) 铝镁合金靶材,价格以当日报价为准,需联系销售报价!!!
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铝镁合金靶材是由高纯铝(Al)和镁(Mg)按照一定比例组成的合金靶材,通过真空熔炼工艺制备,广泛应用于光学镀膜、半导体、显示技术和功能涂层等领域。
力学性能:强度高,比强度也高,即强度与密度的比值较大,在保证强度的同时,重量相对较轻,有利于减轻设备或部件的整体重量。
物理性能:具有良好的导热性和导电性,能够满足一些对导热、导电性能有要求的应用场景;弹性模量小,使得材料具有较好的柔韧性和抗变形能力;抗电磁干扰、电磁屏蔽性好,可用于需要屏蔽电磁干扰的电子设备等领域。
化学性能:铝镁合金靶材具有优异的耐腐蚀性,镁的加入进一步提高了铝的耐腐蚀性能,在空气中能够形成致密的氧化膜,阻止内部材料进一步被氧化和腐蚀。
外观特性:色泽鲜艳美观,通过镀膜工艺可以在物体表面形成具有良好装饰效果的膜层。
真空熔炼浇铸:将高纯度的铝和锆原料按一定比例放入真空熔炼炉中,在高温下熔炼使其充分合金化,然后浇铸成型。但该方法在浇铸过程中容易产生缩孔、疏松和宏观偏析等问题。
粉末冶金法:将铝粉和镁粉按照预定比例混合均匀,然后在高压下将混合粉末压制成所需形状的坯体,后在高温下进行烧结,使粉末颗粒之间发生扩散和结合,形成致密的铝镁合金靶材。
熔炼铸造法:把高纯铝和镁放入熔炉中,加热至一定温度使其熔化并充分混合,然后将熔融合金倒入模具中冷却凝固,得到铝镁合金铸锭,再经过后续的加工处理,如锻造、轧制、机械加工等,制成符合要求的靶材。
光学镀膜:用于制备反射镜、滤光片等,镁的加入可调节膜层的折射率和稳定性。
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